OVPD® technology N. Meyer, M. Rusu, S. Wiesner, S. Hartmann, D. Keiper, M. Schwambera, M. Gersdorff, M. Kunat, M. Heuken, W. Kowalsky and M. Ch. Lux-Steiner Eur. Phys. J. Appl. Phys., 46 1 (2009) 12506 Published online: 27 March 2009 DOI: 10.1051/epjap/2009028
